反渗透纯化水设备-注射水机加工生产厂家-纯化水设备

一、 设计基础

1.1本方案涉及的流程及设备是为了满足：生产工艺用水项目，要求如下：

1.1.1产水用途：半导体用水

1.1.2系统总进水量：预处理：10.0m³/hr

1.1.3系统出力：一级RO纯水处理：6.0m³/hr；回收率：60%；

二级RO纯水处理：5.0m³/hr；回收率：85%；

15%的浓水回流至一级RO纯水系统

EDI纯水处理：5.0m³/hr；回收率: 90%；

10%的浓水回流至二级RO纯水系统

1.1.4终端产水水质：抛光混床电阻率：≥18MΩ.CM

                     TOC≤10μg/L

                     微粒子数:0.1μm以上≤10个/ml

                     细菌个/ml≤0.01

1.1.5运行方式：自动运行（并具备手动操作功能）。